照片中可見到不規(guī)則的顆粒，對顆粒聚集的區(qū)域稱作
D
暫無解析
對被檢者的防護，不包括
應用光或其他能量表現被照體信息狀態(tài)，并以可見影像加以記錄的技術稱
HVL代表的正確意義是
CT輻射防護中，局部劑量測量常用X線毫安秒為
X線衰減的影響因素中，不包括
